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本发明提供等离子体处理装置和控制方法。等离子体处理装置包括：容器；设置在所述容器内并具有电极的载置台；在所述容器内生成等离子体的等离子体源；周期性地对所述电极供给脉冲状负直流电压的偏置电源；周边环，其以包围载置于所述载置台的基片的方式配置；...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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