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基板处理装置、基板处理方法和计算机可读取的存储介质制造方法及图纸
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文档序号:34764702
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本公开涉及基板处理装置、基板处理方法和计算机可读取的存储介质,能够提高蚀刻处理的面内均匀性。基板处理装置具有支承部、基座构件、旋转部、气体供给部、以及气体整流部。气体整流部包含:棒状构件,其包含与基板的下表面相对的顶端部;整流构件,其配置为...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。
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