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本文中所揭示的是用于微调薄膜的性质的设备及方法。形成压电膜的方法包括：(a)通过第一物理气相沉积(PVD)工艺在基板的表面上沉积第一压电膜层(408(1))。所述方法包括：(b)通过第二PVD工艺沉积第二压电膜层(408(2))，该第二压电...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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