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本揭示内容描述了一种半导体装置制造设备及一种用于处理半导体装置制造设备中的污染的方法。半导体装置制造设备可以包括沉积设备及处理器。沉积设备可以包括腔室、用以检测腔室中的杂质的检测模块及用以移除杂质的气体洗涤装置。处理器可用以自检测模块接收与...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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