下载半导体工艺腔室及其管路检测方法的技术资料

文档序号:34480652

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本发明提供一种管路检测方法,包括:等离子体形成步骤、控制半导体工艺腔室的一根进气管路向腔体中提供工艺气体,并控制启辉组件电离腔体中的工艺气体以形成等离子体;识别步骤、控制光信号检测装置检测等离子体产生的光信号,并将光信号对应于各波长的幅值与...
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