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一种系统包含多个主轴臂，其位于处理室中的多个站上方，以在所述站之间运送半导体衬底。在所述半导体衬底的处理期间，所述主轴臂驻留在所述处理室中。所述系统包括第一气体管线，其被设置在所述站下方，以供应清扫气体。所述系统包括第二气体管线，其从所述第...
该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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