专利查询
首页
专利评估
登录
注册
当前位置:
首页
>
专利查询
>
长鑫存储技术有限公司
>
半导体结构的制造方法和半导体结构技术
>技术资料下载
下载半导体结构的制造方法和半导体结构的技术资料
文档序号:34334902
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。
本公开实施例涉及半导体领域,提供一种半导体结构的制造方法和半导体结构,至少可以提高电容的稳定性和容量。制造方法包括:提供基底,形成位于基底上多个阵列排布的第一下电极,第一下电极的形状为柱状;形成位于第一下电极上的上层牺牲层;形成贯穿上层牺牲...
该专利属于长鑫存储技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。
详细技术文档下载地址
温馨提示:您尚未登录,请点
登陆
后下载,如果您还没有账户请点
注册
,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。