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一种用于深紫外(DUV)光学光刻的系统包括：光源装置，包括N个光学振荡器，N是大于或等于2的整数，并且所述N个光学振荡器中的每个光学振荡器被配置为响应于激励信号而产生光脉冲；以及控制系统，被耦合至所述光源装置。所述控制系统被配置为基于输入信...
该专利属于西默有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西默有限公司授权不得商用。

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