用于光源装置的能量校正模块制造方法及图纸

一种用于深紫外(DUV)光学光刻的系统包括：光源装置，包括N个光学振荡器，N是大于或等于2的整数，并且所述N个光学振荡器中的每个光学振荡器被配置为响应于激励信号而产生光脉冲；以及控制系统，被耦合至所述光源装置。所述控制系统被配置为基于输入信号来确定用于所述N个光学振荡器中的第一光学振荡器的经校正的激励信号，所述输入信号包括由所述N个光学振荡器中的另一光学振荡器产生的光脉冲的能量性质。量性质。量性质。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于光源装置的能量校正模块
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年12月18日提交的标题为ENERGY CORRECTION MODULE FOR AN OPTICAL SOURCE APPARATUS(用于光源装置的能量校正模块)的美国申请号62/949,721；以及于2020年7月23日提交的标题为ENERGY CORRECTION MODULE FOR AN OPTICAL SOURCE APPARATUS(用于光源装置的能量校正模块)的美国申请号63/055,563的优先权，两者均通过引用全部并入本文。


[0003]本公开涉及一种用于光源装置的能量校正模块。光源装置包括多个光学振荡器，每个光学振荡器可以产生深紫外(DUV)光束。

技术介绍

[0004]光刻是半导体电路系统在诸如硅晶片等衬底上图案化的过程。光源生成用于曝光晶片上的光刻胶的深紫外(DUV)光。DUV光可以包括从例如大约100纳米(nm)到大约400nm的波长。通常，光源是激光源(例如准分子激光器)，并且DUV光是脉冲激光束。来自光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种用于深紫外(DUV)光学光刻的系统，所述系统包括：光源装置，包括N个光学振荡器，其中N是大于或等于2的整数，并且所述N个光学振荡器中的每个光学振荡器被配置为响应于激励信号而产生光脉冲；以及控制系统，耦合至所述光源装置，所述控制系统被配置为基于输入信号来确定用于所述N个光学振荡器中的第一光学振荡器的经校正的激励信号，所述输入信号包括由所述N个光学振荡器中的另一光学振荡器产生的光脉冲的能量性质。2.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制系统被配置为确定所述经校正的激励信号包括：所述控制系统被配置为将滤波器应用于所述输入信号以产生经滤波的输入信号，并且所述激励信号是所述经滤波的输入信号。3.根据权利要求2所述的系统，其中所述滤波器包括陷波滤波器，所述陷波滤波器传输频率在第一频带中的信息，并且基本上阻挡频率在所述第一频带外的信息。4.根据权利要求3所述的系统，其中所述光源装置产生曝光光束，所述N个光学振荡器中的每个光学振荡器以重复率发射光脉冲，所述N个光学振荡器中的全部光学振荡器具有所述相同的重复率，并且所述曝光光束包括在时间上彼此分离的、来自所述N个光学振荡器中的每个光学振荡器的光脉冲。5.根据权利要求3所述的系统，其中所述滤波器基于所述输入信号和能量误差值产生输出，并且所述控制系统被配置为基于所述滤波器的所述输出和初始输入信号来确定经校正的输入信号。6.根据权利要求5所述的系统，其中所述滤波器包括卡尔曼滤波器。7.根据权利要求3所述的系统，其中所述控制系统还被配置为：在确定经校正的输入信号之前，将前馈校正应用于初始输入信号。8.根据权利要求7所述的系统，其中基于如下项确定所述前馈校正信号：所产生的光脉冲的能量与用于N个光学放大器中的第一光学放大器的激励量之间的第一建模关系、以及所产生的光脉冲的能量与用于所述N个光学放大器中的第二光学放大器的激励量之间的第二建模关系。9.根据权利要求8所述的系统，其中所述N个光学振荡器中的每个光学振荡器中的激励机制包括电极的集合，所述第一建模关系包括：使施加到所述N个光学放大器中的所述第一光学放大器中的所述电极的电压量与所产生的所述光脉冲的所述能量相关的线性关系，并且所述第二建模关系包括：使施加到所述N个光学放大器中的所述第一光学放大器中的所述电极的电压量与所产生的所述光脉冲的所述能量相关的线性关系。10.根据权利要求9所述的系统，还包括扫描仪装置，被配置为从所述光源装置接收曝光光束，并且其中所述控制系统被实施为所述扫描仪装置的一部分，使得所述扫描仪装置向所述N个光学振荡器中的所述第一光学振荡器提供所述经校正的激励信号。11.根据权利要求1所述的系统，还包括：光束组合器，被配置为：从所述N个光学振荡器中的任何一个光学振荡器接收光脉冲，并且将接收到的所述光脉冲作为曝光光束导向扫描仪装置。12.根据权利要求11所述的系统，其中所述能量性质包括基于在所述扫描仪装置中获
得的光能测量值的指标。13.根据权利要求1所述的系统，其中所述能量性质包括能量误差。14.根据权利要求1所述的系统，其中由所述N个光学振荡器中的所述另一个光学振荡器产生的所述光脉冲是曝光光束中的第一光脉冲，由所述N个光学振荡器中的所述第一光学振荡器响应于所述激励信号的施加而形成的所述光脉冲是所述曝光光束中的第二脉冲，并且所述第二脉冲和所述第一脉冲是连续脉冲。15.一种用于深紫外(DUV)光学光刻系统的方法，所述方法包括：基于从N个光学振荡器中的第一光学振荡器发射的、并且由扫描仪装置接收的光脉冲中的能量的量，确定能量误差，其中N是等于或大于2的整数，并且所述能量误差是所述光脉冲中的所述能量的量与目标能量之间的差异；接收初始输入信号，所述初始输入信号基于所述能量误差；基于所述初始输入信号，确定经校正的输入信号；以及将所述经校正的输入信号施加到所述N个光学振荡器中的第二光学振荡器的激励机制。16.根据权利要求15所述的方法，其中基于所述初始输入信号，确定所述经校正的输入信号包括：对所述初始输入信号进行滤波。17.根据权利要求16所述的方法，其中对所述初始输入信号进行滤波包括：将陷波滤波器应用于所述初始输入信号。18.根据权利要求16所述的方法，其中对初始输入信号进行滤波包括：将所述初始输入信号和所述能量误差提供给卡尔曼滤波器。19.根据权利要求16所述的方法，其中对所述初始输入信号进行滤波包括：将前馈校正应用于所述初始输入信号。20.根据权利要求16所述的方法，其中所述初始输入信号是从扫描仪装置接收的，所述扫描仪装置被配置为接收由所述N个...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵颖博，M，
申请(专利权)人：西默有限公司，
类型：发明
国别省市：