下载半导体工艺腔室的技术资料

文档序号:34278088

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本发明提供一种半导体工艺腔室,其中用于向腔体内部输送气体的进气装置包括气路连接件、转接管和转接块;其中,气路连接件设置于喷嘴上,气路连接件内部具有第一通道,第一通道的出气端与喷嘴的进气端连通;转接块固定在线圈支架上;转接块内部具有第二通道,...
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