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本申请实施例提供了一种半导体工艺设备及其工艺腔室。该工艺腔室包括：工艺管、腔室组件及尾气装置；腔室组件设置于工艺管内，腔室组件的两端分别形成有传输口及尾气口；尾气装置设置于工艺管内，并且位于尾气口的一侧，尾气装置的壳体上开设有导入口及导出口...
该专利属于北京北方华创微电子装备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京北方华创微电子装备有限公司授权不得商用。

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