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高密度等离子体增强化学气相沉积腔室制造技术
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文档序号:34236190
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本公开内容涉及用于沉积腔室的喷头的方法和装置。在一个实施方式中,提供一种用于等离子体沉积腔室的喷头,包括多个穿孔的砖,其每一个耦合至多个支撑构件的一个或多个,及在喷头之中的多个电感耦合器,其中多个电感耦合器的一个电感耦合器相对应至多个穿孔的...
该专利属于应用材料公司所有,仅供学习研究参考,未经过应用材料公司授权不得商用。
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