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根据一个方面，提供了一种图案化方法，其包含：在下部图案记忆层上，形成第一上部阻挡的图案，然后形成上部图案记忆层，然后形成第二上部阻挡的图案；随后，使用光刻和蚀刻在上部图案记忆层中图案化上沟槽，并沿上沟槽的侧壁形成间隔线，以限定提供间隔的上沟...
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