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本发明实施例公开了一种用于光刻设备的对准标记结构、掩膜板以及半导体结构。所述对准标记结构包括多个主标记，用于实现光刻工艺中的对准；所述多个主标记中的每个主标记包括相互平行且间隔设置的多个对准栅条；以及虚设标记，用于匹配所述光刻设备的尺寸需求...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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