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具有参考边缘的孔径定位成界定样品照射区和屏蔽区。所述样品照射区包括接近与检测器共轭的所述屏蔽区的一部分。样品从所述屏蔽区扫描到所述样品照射区中，使得所述样品可保持为未曝光，直至所述样品相对于所述检测器恰当地定位以用于成像。减少所述样品的照射...
该专利属于FEI公司所有，仅供学习研究参考，未经过FEI公司授权不得商用。

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