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厚光致抗蚀剂层计量目标制造技术
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下载厚光致抗蚀剂层计量目标的技术资料
文档序号:34168313
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一种计量目标包含:第一目标结构,其形成于样本的第一层的第一区域及第三区域中的至少一者内,其中所述第一目标结构包括含有一或多个第一单元图案元件的多个第一单元;及第二目标结构,其形成于所述样本的第二层的第二区域及第四区域中的至少一者内,所述第二...
该专利属于科磊股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过科磊股份有限公司授权不得商用。
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