厚光致抗蚀剂层计量目标制造技术

一种计量目标包含：第一目标结构，其形成于样本的第一层的第一区域及第三区域中的至少一者内，其中所述第一目标结构包括含有一或多个第一单元图案元件的多个第一单元；及第二目标结构，其形成于所述样本的第二层的第二区域及第四区域中的至少一者内，所述第二目标结构包括含有一或多个第二单元图案元件的多个第二单元。第二单元。第二单元。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】厚光致抗蚀剂层计量目标
[0001]相关申请案的交叉参考
[0002]本申请案根据35 U.S.C.
§
119(e)主张名叫郭令仪(Guo Lingyi)及裴金成(Pei Jincheng)的专利技术者在2019年12月30日申请的“TPRIBO(厚光致抗蚀剂IBO)用于厚光致抗蚀剂层过程的新基于图像的重叠计量(TPRIBO(THICK PHOTO RESIST IBO)A NEW IMAGE
‑
BASED OVERLAY METROLOGY FOR THICK PHOTO RESIST LAYER PROCESS)”的序列号为62/955,243的美国临时申请案的权利，所述申请案的全文以引用的方式并入本文中。


[0003]本公开大体上涉及重叠计量且更特定来说，涉及使用形成于厚光致抗蚀剂层上的计量目标的重叠计量。

技术介绍

[0004]重叠计量目标通常经设计以通过特性化具有定位于所关注样本层上的目标特征的重叠目标而提供关于样本的多个层的对准的诊断信息。此外，通常通过汇总在跨样本的各个位置处的多本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种光致抗蚀剂计量目标，其包括：第一目标结构，其由光致抗蚀剂材料形成，其中所述第一目标结构形成于样本的第一层的第一区域及第三区域中的至少一者内，所述第一目标结构包括含有一或多个第一单元图案元件的多个第一单元；及第二目标结构，其由光致抗蚀剂材料形成，其中所述第二目标结构形成于所述样本的第二层的第二区域及第四区域中的至少一者内，所述第二目标结构包括含有一或多个第二单元图案元件的多个第二单元。2.根据权利要求1所述的计量目标，其中所述第一目标结构与所述第二目标结构关于所述样本上的共同旋转对称中心双重旋转对称。3.根据权利要求2所述的计量目标，其中所述多个第一单元包括一或多个第一周期性图案化栅格，且其中所述一或多个第一周期性图案化栅格包含所述一或多个第一单元图案元件。4.根据权利要求2所述的计量目标，其中所述多个第二单元包括一或多个第二周期性图案化栅格，且其中所述一或多个第二周期性图案化栅格包含所述一或多个第二单元图案元件。5.根据权利要求1所述的计量目标，其中所述一或多个第一单元图案元件与光学计量模式兼容。6.根据权利要求1所述的计量目标，其中所述一或多个第二单元图案元件与光学计量模式兼容。7.一种系统，其包括：控制器，其通信地耦合到一或多个计量子系统，其中所述控制器包含一或多个处理器，其中所述一或多个处理器经配置以执行维持于存储器中的一组程序指令，其中所述一组程序指令经配置以引起所述一或多个处理器：从所述一或多个计量子系统接收指示从样本的一或多个计量目标发出的照明的一或多个信号，其中所述样本的所述一或多个计量目标包括：由光致抗蚀剂材料形成的第一目标结构，其中所述第一目标结构形成于样本的第一层的第一区域及第三区域中的至少一者内，所述第一目标结构包括含有一或多个第一单元图案元件的多个第一单元；及由光致抗蚀剂材料形成的第二目标结构，其中所述第二目标结构形成于所述样本的第二层的第二区域及第四区域中的至少一者内，所述第二目标结构包括含有一或多个第二单元图案元件的多个第二单元；基于指示从所述第一目标结构的一或多个部分发出的照明的一或多个信号产生一或多个第一重叠测量；基于指示从所述第二目标结构的一或多个部分发出的照明的一或多个信号产生一或多个第二重叠测量；及基于所述一或多个第一重叠测量及所述一或多个第二重叠测量确定所述样本的重叠值。8.根据权利要求7所述的系统，其中所述基于指示从所述第一目标结构的一或多个部分发出的照明的一或多个信号产生一或多个第一重叠测量包括：基于所述一或多个第一重叠测量确定一或多个第一层重心。
9.根据权利要求8所述的系统，其中所述基于指示从所述第二目标结构的一或多个部分发出的照明的一或多个信号产生一或多个第二重叠测量包括：基于所述一或多个第二重叠测量确定一或多个第二层重心。10.根据权利要求9所述的系统，其中所述基于所述一或多个第一重叠测量及所述一或多个第二重叠测量确定所述样本的重叠值包括：计算所述一或多个第一层重心与所述一或多个第二层重心之间的差异。11.根据权利要求7所述的系统，其中所述第一目标结构与所述第二目标结构关于所述样本上的共同旋转对称中心双重旋转对称。12.根据权利要求11所述的系统，其中所述多个第一单元包括一或多个第一周期性图案化栅格，且其中所述一或多个第一周期性图案化栅格包含所述一或多个第一单元图案元件。13.根据权利要求11所述的系统，其中所述多个第二单元包括第二多个周期性图案化栅格，且其中所述第二多个周期性图案化栅格包含所述一或多个第二单元图案元件。14.根据权利要求7所述的系统，其中所述一或多个第一单元图案元件与光学计量模式兼容。15...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭凌伊，裴金成，
申请(专利权)人：科磊股份有限公司，
类型：发明
国别省市：