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描述了一种用于将图案成像到衬底上的源掩模优化或仅掩模优化方法。该方法包括：针对来自照射源的照射，确定非均匀照射强度分布；以及基于非均匀照射强度分布，确定对图案的一个或多个调节，直到确定图案化到衬底上的特征与目标设计基本匹配。可以基于照射源和...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。

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