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本发明提供一种流量测量方法和基片处理装置，其能够利用分支气体配管进行分流，并高精度地测量流到处理室内的分支后的气体的流量。流量测量方法在基片处理装置中测量气体的流量，上述基片处理装置包括：供给气体的气体供给配管；从上述气体供给配管分支的多个...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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