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一种半导体元件及其形成方法，半导体元件包括半导体基板。半导体元件包括从半导体基板突出并沿第一方向延伸的第一鳍片。半导体元件包括从半导体基板突出并沿第二方向延伸的第一鳍片。耦合至第一鳍片的第一磊晶源极/漏极区与耦合至第二鳍片的第二磊晶源极/漏...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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