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本发明实施例涉及改善光学近端校正技术的方法及系统。本文公开一种改善布局的方法及系统。一种方法包括：接收设计布局；确定第一光学模型及光致抗蚀剂模型的光致抗蚀剂校正项目的第一子集合；根据所述第一光学模型及所述光致抗蚀剂模型的所述第一子集合进行模...
该专利属于台湾积体电路制造股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过台湾积体电路制造股份有限公司授权不得商用。

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