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腔盖辅助单元和半导体设备制造技术
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文档序号:34070637
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本实用新型提供了一种腔盖辅助单元和半导体设备,其中腔盖辅助单元用于腔盖和腔体之间的对正,包括:第一对正件和第二对正件,所述第一对正件和所述第二对正件分别安装于所述腔盖和所述腔体上;所述第一对正件包括沿第一方向设置的第一对正部,所述第二对正件...
该专利属于拓荆科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过拓荆科技股份有限公司授权不得商用。
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