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本实用新型提供了一种晶圆加工设备，包括反应腔室、供料装置、加工装置、支撑座和绝缘件；反应腔室设有第一通孔，供料装置与第一通孔连通，加工装置对应第一通孔设置于反应腔室内，支撑座对应加工装置设置；绝缘件设置于第一通孔，绝缘件用于阻碍等离子体进入...
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