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本发明提供一种基片处理装置，其无需改变真空输送模块的设计，就能够改变负载锁定模块中的基片输送室的数量。基片处理装置包括：一个或多个基片处理模块；与一个或多个基片处理模块连接的真空输送模块；负载锁定模块，其包括沿第一水平方向排列的至少3个负载...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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