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竖直存储器件制造技术
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下载竖直存储器件的技术资料
文档序号:34003838
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竖直存储器件包括衬底上的单元堆叠结构、支撑结构和单元接触插塞。单元堆叠结构包括在竖直方向上彼此间隔开的栅极图案和栅极图案之间的绝缘层。栅极图案在第一方向上延伸,并且栅极图案沿第一方向的边缘包括台阶形状的台阶部分。支撑结构穿过单元堆叠结构和栅...
该专利属于三星电子株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过三星电子株式会社授权不得商用。
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