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本发明实施例公开了一种半导体器件及其制备方法,半导体器件包括有源区以及围绕有源区的非有源区;半导体器件还包括:衬底;位于衬底一侧的多层半导体层;位于衬底一侧的至少一个屏蔽结构,屏蔽结构与预设电位电连接,用于形成所述有源区指向所述非有源区的电...该专利属于苏州能讯高能半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州能讯高能半导体有限公司授权不得商用。
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本发明实施例公开了一种半导体器件及其制备方法,半导体器件包括有源区以及围绕有源区的非有源区;半导体器件还包括:衬底;位于衬底一侧的多层半导体层;位于衬底一侧的至少一个屏蔽结构,屏蔽结构与预设电位电连接,用于形成所述有源区指向所述非有源区的电...