下载一种半导体器件及其制作方法、封装结构的技术资料

文档序号:33992725

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本发明公开一种半导体器件及其制作方法、封装结构,包括:提供第一衬底,第一衬底包括含有读出电路的第一基底,以及第一基底上具有互连电路的第一介质层,互连电路连接读出电路,第一介质层设有空腔;在空腔中填充第一牺牲层;在第一衬底上形成感测元件,感测...
该专利属于中芯集成电路(宁波)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过中芯集成电路(宁波)有限公司授权不得商用。

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