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本实用新型涉及半导体制造技术领域，尤其涉及一种研磨垫修整器及化学机械研磨装置。所述研磨垫修整器包括：修整组件，包括多个相互独立的修整盘，每个所述修整盘中均包括修整颗粒，且多个所述修整盘中的所述修整颗粒的粒径互不相同；控制组件，与多个所述修整...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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