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一种对准偏差的补偿方法，包括：根据第一对准模型和第二对准模型，获取对准模型偏差信息；在对初始第二光刻层进行初始光刻对准后，根据对准模型偏差信息对初始第二光刻层进行补偿光刻对准，以图形化初始第二光刻层，形成第二光刻层。从而，在光刻工艺中，提高...
该专利属于中芯南方集成电路制造有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过中芯南方集成电路制造有限公司授权不得商用。

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