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本实用新型公开一种真空溅射镀膜装置，其包括镀膜室，所述镀膜室的上方和下方分别设有上阴极靶管以及下阴极靶管，所述镀膜室的中部的两侧设有位于上阴极靶管和下阴极靶管之间的基片载盘，两个所述基片载盘之间夹持有待镀膜基片，所述镀膜室上设有与所述基片载...
该专利属于湘潭宏大真空技术股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过湘潭宏大真空技术股份有限公司授权不得商用。

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