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半导体装置制造方法及图纸
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文档序号:33879904
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实施方式提供一种能够确实地形成接点的半导体装置。实施方式的半导体装置包括:积层体,其包含第1积层部分及第2积层部分,所述第1积层部分在第1方向上相互分开地积层着多个第1导电层,且具有阶梯状的第1端部,所述第2积层部分设置在所述第1积层部分的...
该专利属于铠侠股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过铠侠股份有限公司授权不得商用。
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