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包括铁电层的半导体器件及其制造方法技术
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文档序号:33846085
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本公开提供了一种包括铁电层的半导体器件及其制造方法。根据实施例的半导体器件包括:衬底;位线结构和源极线结构,分别在垂直于衬底表面的方向上延伸;半导体层,其设置在平行于衬底表面的平面上在位线结构与源极线结构之间;第一铁电层,其设置在半导体层的...
该专利属于爱思开海力士有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过爱思开海力士有限公司授权不得商用。
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