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用于高效的高次谐波产生的方法和设备技术
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文档序号:33804525
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披露了一种产生高次谐波辐射的高次谐波辐射源和相关联的方法。所述高次谐波辐射源被配置成通过利用辐射的预脉冲照射所述气体介质来调节所述气体介质,由此产生包括预脉冲等离子体分布的等离子体;以及利用辐射的主脉冲来照射所述气体介质以产生所述高次谐波辐...
该专利属于ASML荷兰有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过ASML荷兰有限公司授权不得商用。
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