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本发明实施例公开了一种用于清洁石英晶舟的方法及装置,所述方法包括:在高温环境下利用蚀刻气体对待清洁的所述石英晶舟进行第一蚀刻,以获得位于所述石英晶舟的表面处并且能够产生吸杂作用的损伤层和应力层;对经历所述第一蚀刻的所述石英晶舟进行热处理,以...该专利属于西安奕斯伟硅片技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过西安奕斯伟硅片技术有限公司授权不得商用。
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本发明实施例公开了一种用于清洁石英晶舟的方法及装置,所述方法包括:在高温环境下利用蚀刻气体对待清洁的所述石英晶舟进行第一蚀刻,以获得位于所述石英晶舟的表面处并且能够产生吸杂作用的损伤层和应力层;对经历所述第一蚀刻的所述石英晶舟进行热处理,以...