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三维存储器及其制作方法、存储系统及电子设备技术方案
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文档序号:33653574
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本发明涉及一种三维存储器及其制作方法、存储系统及电子设备,包括:在基底上依次形成停止层和叠层结构;形成沟道孔,沟道孔贯穿叠层结构和停止层,并延伸至基底内;缩小沟道孔贯穿停止层的第一孔段的孔径;在孔径缩小后的沟道孔中形成沟道结构,从而在去除沟...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。
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