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于此公开的实施方式关于光刻系统和制造图案的方法。光刻系统包括用于产生掩模、图案化基板、在图案化的基板上执行计量以及将计量值与掩模进行比较的各种部件。形成图案的方法包括以下步骤：将图案化的基板与掩模进行比较；及确定新的掩模，新的掩模结合了来自...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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