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一种淀积设备制造技术
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文档序号:33599433
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本申请实施例公开了一种淀积设备,该设备包括:反应腔室、磁场产生装置和电场产生装置;磁场产生装置用于在反应腔室内产生交流磁场,电场产生装置用于在反应腔室内产生电场,使得进入反应腔室内的等离子体在该交流磁场和该电场作用下对晶圆进行淀积和溅射;其...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有,仅供学习研究参考,未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。
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