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本申请公开了一种晶圆键合装置，包括：等离子腔室，用于对待键合晶圆进行表面活化处理；水汽控制模块，包括设于等离子腔室内且用于测量等离子腔室内的水汽含量的水汽监测单元，以及与等离子腔室连通且用于向等离子腔室内通入水汽的水汽调节单元。本申请实施例...
该专利属于长江存储科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过长江存储科技有限责任公司授权不得商用。

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