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本发明属于光刻胶领域，涉及一种底部抗反射涂层组合物及其制备方法和微电子结构的形成方法。所述底部抗反射涂层组合物中含有改性刚性有机笼状化合物Ⅰ和Ⅱ以及有机溶剂；所述改性刚性有机笼状化合物Ⅰ和Ⅱ分别为将刚性有机笼状化合物中的部分酚羟基修饰转化为...
该专利属于福建泓光半导体材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建泓光半导体材料有限公司授权不得商用。

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