下载半导体器件及其制备方法的技术资料

文档序号:33539265

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本申请提供一种半导体器件及其制备方法。该半导体器件包括衬底;半导体层,位于衬底上;源极、漏极和栅极,位于半导体层远离衬底的一侧,栅极位于源极和漏极之间,且与源极和漏极均具有间距;其中,栅极包括栅脚和与栅脚连接的栅板,栅板包括位于源极和栅脚之...
该专利属于苏州能讯高能半导体有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过苏州能讯高能半导体有限公司授权不得商用。

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