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本发明涉及等离子体处理装置及等离子体处理方法，能保证等离子体的稳定性且能高速地进行匹配。等离子体处理装置具备：腔室内的基板支承台内部的第一电极、与第一电极连接的匹配器和高频电源、及控制部，匹配器具有：下位电路，将多个下位串联电路并联连接而成...
该专利属于东京毅力科创株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过东京毅力科创株式会社授权不得商用。

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