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本发明提供一种载入载出腔及刻蚀设备系统，载入载出腔包括腔本体、承载结构及管路结构；腔本体设有进气口和出气口；承载结构位于腔本体的内部，承载结构可形成沿竖向间隔布置的至少一层放置层，放置层用于承载晶圆；管路结构包括进气管段、分气管段和至少一个...
该专利属于上海华力微电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华力微电子有限公司授权不得商用。

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