下载可区域性控制刻蚀速率的刻蚀设备及半导体产品制造系统的技术资料

文档序号:33281636

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本实用新型提供一种可区域性控制刻蚀速率的刻蚀设备,包括刻蚀腔室,设置在刻蚀腔室内的基础刻蚀线圈,以及与基础刻蚀线圈连接的射频电源;还包括:设置在刻蚀腔室内并与射频电源连接的若干个辅助刻蚀线圈,每个辅助刻蚀线圈的尺寸小于基础刻蚀线圈;每个辅助...
该专利属于长电集成电路(绍兴)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过长电集成电路(绍兴)有限公司授权不得商用。

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