温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本实用新型提供一种改善干法蚀刻均匀性的气体分散装置、反应腔室及蚀刻机，所述气体分散装置包括：分散板本体，所述分散板本体上具有多个气孔；多个盖板，所述多个盖板分别盖封在所述多个气孔的进气口或出气口位置处；旋转驱动部件，其固定在所述分散板本体上...
该专利属于福建晶安光电有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过福建晶安光电有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。