温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。

本公开实施例公开了一种等离子体处理装置及其处理晶片的方法，所述等离子体处理装置包括：反应腔；静电吸盘，位于所述反应腔的底部，用于承载晶片；电压供给模块，连接所述静电吸盘，所述电压供给模块用于给所述静电吸盘提供电压；其中，所述电压供给模块的升...
该专利属于长鑫存储技术有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过长鑫存储技术有限公司授权不得商用。

详细技术文档下载地址

温馨提示：您尚未登录，请点 登陆 后下载，如果您还没有账户请点 注册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。