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一种低粗糙度低功耗高熵金属氧化物介电层及其制备方法与应用技术
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下载一种低粗糙度低功耗高熵金属氧化物介电层及其制备方法与应用的技术资料
文档序号:33147059
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本发明公开了一种低粗糙度低功耗高熵金属氧化物介电层及其制备方法与应用。所述方法为:将含锆、铝、镁、铪和钇的无机金属盐溶于有机溶剂中得到前驱体溶液;将前驱体溶液旋涂于衬底上,进行预退火,然后进行热退火处理,得到高熵氧化物介电层薄膜。本发明利用...
该专利属于华南理工大学所有,仅供学习研究参考,未经过华南理工大学授权不得商用。
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