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具有量子井结构的半导体元件和半导体元件的形成方法技术
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下载具有量子井结构的半导体元件和半导体元件的形成方法的技术资料
文档序号:3314169
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半导体元件(1)包含具有量子井结构的活性区域(3)。活性区域(3)包含井区域(5)和阻挡区域(7)。井区域(5)由含有氮、铟和镓的Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体组成。阻挡区域(7a)具有第一半导体层(9a)和第二半导体层(11a)。第一半导体层(9a...
该专利属于住友电气工业株式会社所有,仅供学习研究参考,未经过住友电气工业株式会社授权不得商用。
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