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用于在半导体衬底上形成刺激响应聚合物(SRP)的制剂包含有机弱酸。用于保护敏感性衬底的方法包含在敏感性衬底上形成SRP层以及在该SRP层上形成一或更多盖层。该SRP层上形成一或更多盖层。该SRP层上形成一或更多盖层。
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该专利属于朗姆研究公司所有，仅供学习研究参考，未经过朗姆研究公司授权不得商用。

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