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电容结构及其制作方法技术
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文档序号:33137943
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本申请提供一种电容结构及其制作方法。该电容结构包括:衬底、第一电容接触层、下电极层、电容介质层和上电极层,其中,第一电容接触层阵列排布于衬底上,下电极层围绕第一电容接触层侧壁,并沿第一电容接触层背离衬底的方向延伸,电容介质层覆盖衬底上表面、...
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