下载一种芯片及其制作方法的技术资料

文档序号:33120210

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本申请公开了一种芯片及其制作方法,所述芯片的制作方法包括:分别将高纯单晶硅片的其中一面进行抛光处理,以及将低纯单晶硅片的其中一面进行抛光处理;将所述高纯单晶硅片的抛光面和所述低纯单晶硅片的抛光面对准预键合以形成预键合硅片,并将所述预键合硅片...
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